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西電郝躍院士、張進成教授、周弘教授團隊:1.96?kV p-Cr?O?/β-Ga?O?異質(zhì)結(jié)二極管,理想因子1.07

由西安電子科技大學(xué)的研究團隊在學(xué)術(shù)期刊 Applied Physics Letters 發(fā)布了一篇名為 1.96 kV p-Cr2O3/β-Ga2O3 heterojunction diodes with an ideality factor of 1.07(1.96?kV p-Cr2O3/β-Ga2O3 異質(zhì)結(jié)二極管,理想因子達到 1.07)的文章。

1. 項目支持

該項研究國家自然科學(xué)基金委員會(NSFC)的支持和資助(Grant No. 62222407)。該研究還得到了廣東省基礎(chǔ)與應(yīng)用基礎(chǔ)研究基金的資助(Grant No. 2023B1515040024)。

2. 背景

β-Ga2O3 作為超寬禁帶半導(dǎo)體材料,具有約4.8 eV的帶隙和 8 MV/cm 的臨界擊穿場強(Ec),是高功率電子器件的重要材料。但目前仍缺乏可控的 p 型 Ga2O3,使得其在雙極型器件發(fā)展上受限。為此,研究通常采用外部 p 型氧化物(如 NiO、Cu2O、Cr2O等)與 n 型 Ga2O形成異質(zhì)結(jié)結(jié)構(gòu)(HJD)。其中,Cr2O由于其熱穩(wěn)定性和寬帶隙(~3.6 eV)而成為新興候選材料,但其此前應(yīng)用于 Ga2O3 器件中尚未實現(xiàn)高擊穿電壓。研究即致力于通過 p-Cr2O3/n-Ga2O3 異質(zhì)結(jié)結(jié)構(gòu)實現(xiàn)高電壓、低泄漏、穩(wěn)定性的二極管器件。

3. 主要內(nèi)容

該文章報道了一種具備千伏級擊穿電壓(BV)的 p-Cr2O3/n-Ga2O3 垂直異質(zhì)結(jié)二極管(HJD)。其中,p 型氧化鉻(Cr2O3)薄膜通過磁控濺射沉積而成,厚度約為 20?nm,空穴濃度為 1 × 1016 cm−3。高分辨透射電子顯微鏡(HRTEM)表征顯示,Cr2O3 薄膜呈多晶結(jié)構(gòu)。在室溫條件下,器件(半徑 40 μm)表現(xiàn)出 1.7?V 的開啟電壓(Von)、4.6 mΩ·cm2 的單位面積導(dǎo)通電阻(Ron,sp),以及高達 1.96?kV 的擊穿電壓。尤其值得注意的是,該器件的理想因子(η)為 1.07,是目前所有已報道 Ga2O3 異質(zhì)結(jié)二極管中最接近理想值 1 的,表明其 p-Cr2O3/n-Ga2O3 異質(zhì)結(jié)界面質(zhì)量極高。此外,在 75?°C 和 150?°C 條件下,該器件仍保持分別為 1.63?kV 和 1.4?kV 的擊穿電壓,顯示出良好的高溫穩(wěn)定性和高功率應(yīng)用潛力。

4. 創(chuàng)新點

·首次實現(xiàn)理想因子極低(1.07)的 Ga2O3 異質(zhì)結(jié)二極管,表明界面缺陷極低、傳輸接近理想熱發(fā)射機制。

·20 nm 厚 Cr2O3 即實現(xiàn) 1.96 kV 擊穿電壓與低泄漏電流,展現(xiàn)出極佳的電場調(diào)控效果。

·無需邊緣終止結(jié)構(gòu)即可獲得高擊穿特性,簡化器件結(jié)構(gòu)設(shè)計。

·在 150 °C 下仍維持 1400 V 的擊穿電壓,適用于高溫應(yīng)用場景。

5. 總結(jié)

該團隊已制造出了具有千伏級 BV 和 1.07 的超低 η/neth 的 p-Cr2O3/n-Ga2O3 HJD。半徑為 40μm 的二極管實現(xiàn)了 835 MW/cm2 的 P-FOM,Ron,sp 為 4.6 mΩ·cm2,BV 為 1.96 kV,低 IR < 10 μA/cm2。在 75 和 150 °C 時,BV 值分別為 1.63 和 1.40 kV。出色的 HJ 接觸界面、結(jié)晶材料質(zhì)量和高溫可靠性使 p-Cr2O3 成為一種很有前途的材料,可用于基于 Ga2O3 的中壓和高壓器件。

6. 圖片示例

圖 1. (a) 垂直 p-Cr2O3/n- β-Ga2O3 HJD 的二維橫截面示意圖。(b) HJD 的 HRTEM 圖像,以及 (c) Cr2O3/ Ga2O3 界面的 HRTEM 圖像,右側(cè)放大的插圖描述了晶格結(jié)構(gòu)圖像,顯示了 Cr2O3 的多晶結(jié)構(gòu)。(d) (b) 中虛線框區(qū)域的 EDS 元素分析結(jié)果。(e) 在藍寶石襯底上制備的 20 nm Cr2O3 薄膜的 HRXRD 2θ-ω 光譜。

圖 2. (a) HJD 的 C-V 和 1/C2 -V 特性,提取的 Vbi 為 2.20 V。

DOI:

doi.org/10.1063/5.0248187

本文轉(zhuǎn)發(fā)自《亞洲氧化鎵聯(lián)盟》訂閱號

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